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全自動立式退火爐

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產品用途:
用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領域,主要適用于6"、8"、12"晶圓的合金、退火等工藝。
退火是在中低溫條件下,通入惰性氣體(N2),消除硅片界面處晶格缺陷和晶格損傷,優化硅片界面質量的一種工藝。
產品詳情

產品特點:

   1.一體式(shi)人機操作(zuo)系統,連續式(shi)自(zi)動(dong)化(hua)生產,工作(zuo)效(xiao)率(lv)高,節約人工成本(ben)、電(dian)能及工藝時間;

   2.FEC加熱,升(sheng)溫迅(xun)速且均勻度好;

   3.優質不(bu)銹鋼材質,表(biao)面(mian)經(jing)物理(li)及化學(xue)拋(pao)光處理(li),確保潔凈度;


技術參數:

號(hao)

TAST2075D112-N

TAST3075D112-N

處理產品

6/8/12inch 晶圓(yuan)

 處(chu)理量 

 100PCS/管 

加熱器(qi)

圓(yuan)形(xing)FEC加熱板

上(shang)料口

2個 

機械(xie)手

1

溫度范圍

長期使用溫度: 1050℃,最高溫度(du)1200

升溫速率(lv)

10/min

降(jiang)溫速率

5/min

爐溫均勻性

±℃(1050℃

加熱溫區(qu)

3

溫度(du)控制(zhi)方式

SSR

程序(xu)控制

P.I.D控制

爐膛材料

石(shi)英(ying)

保溫材料

陶瓷纖維

氣氛(fen)控制(zhi)

多路流量(liang)計調節(jie)進氣流量計量程(cheng)0-150L/min  

 氣氛 

 N2 

排(pai)氣系統(tong)

在頂部設(she)置(zhi)排氣煙囪,用于廢氣排放,回收


全自動立式退火爐
全自動立式退火爐

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產品用途:
用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領域,主要適用于6"、8"、12"晶圓的合金、退火等工藝。
退火是在中低溫條件下,通入惰性氣體(N2),消除硅片界面處晶格缺陷和晶格損傷,優化硅片界面質量的一種工藝。
產品詳情

產品特點:

   1.一體式(shi)人機操作(zuo)系統(tong),連(lian)續式(shi)自(zi)動化生產,工(gong)作(zuo)效率高,節約人工(gong)成(cheng)本、電(dian)能(neng)及(ji)工(gong)藝時間;

   2.FEC加熱,升溫迅速且均(jun)勻度好;

   3.優質不銹鋼材質,表(biao)面經物理及(ji)化學拋光處(chu)理,確保潔(jie)凈度;


技術參數:

號(hao)

TAST2075D112-N

TAST3075D112-N

處理產品

6/8/12inch 晶(jing)圓

 處理(li)量 

 100PCS/管(guan) 

加熱器

圓形FEC加熱板

上料口

2個 

機(ji)械手

1

溫度(du)范圍

長(chang)期使用(yong)溫度: 1050℃,最高(gao)溫度1200

升溫(wen)速率

10/min

降溫速率

5/min

爐溫均勻性

±℃(1050℃

加(jia)熱溫區

3

溫度控制方式(shi)

SSR

程序控制

P.I.D控(kong)制

爐膛材料

石英

保溫(wen)材(cai)料

陶瓷纖維

氣氛(fen)控制(zhi)

多路流量計調節進(jin)氣流量(liang)計量(liang)程0-150L/min  

 氣氛 

 N2 

排氣系(xi)統

在頂(ding)部設置排氣(qi)煙囪,用(yong)于廢(fei)氣(qi)排放,回收


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