HMDS和BARC都是常用于光刻(ke)工序中的化學品，但是顯影液卻無法去除他(ta)們，這有什(shen)么(me)依(yi)據(ju)呢(ni)？HMDS和(he)BARC一定要去除嗎，有哪幾種(zhong)去除方式呢？

在光刻程序中(zhong)，HMDS主要用于對硅片進行表面(mian)處(chu)理，使其(qi)表面(mian)變得更(geng)為光滑，從而提高光刻膠(jiao)的(de)附著(zhu)力和分辨率；BARC主要用于減少硅片表面的(de)反射，從而提高光刻膠的(de)分辨率和精度。HMDS為液體，化學性質穩定；BARC則為涂層材料，需要進行(xing)調(diao)配(pei)和涂覆。

那又為(wei)什(shen)么(me)要去除HMDS和BARC呢？因為HMDS和BARC去除不干凈，會影(ying)響(xiang)(xiang)晶圓后面的半導(dao)(dao)體(ti)工(gong)序，尤其(qi)是光刻和鍍膜(mo)(mo)工(gong)序。就光刻工(gong)序而言，容易導(dao)(dao)致接下來(lai)的光刻膠(jiao)(jiao)附(fu)著(zhu)不牢固，引(yin)起光刻膠(jiao)(jiao)剝離；同時(shi)影(ying)響(xiang)(xiang)光刻膠(jiao)(jiao)曝光，導(dao)(dao)致光刻圖案的尺寸(cun)不準(zhun)確(que)或邊緣粗糙。對鍍膜(mo)(mo)層的影(ying)響(xiang)(xiang)則有影(ying)響(xiang)(xiang)后續(xu)膜(mo)(mo)層附(fu)著(zhu)力，增(zeng)加膜(mo)(mo)層脫落概率(lv)；同時(shi)也影(ying)響(xiang)(xiang)新膜(mo)(mo)層的不均(jun)勻性(xing)，容易形成小(xiao)孔或其(qi)他缺(que)陷等。

為避(bi)免上述(shu)問題，就要解決HMDS，BARC去除問題。首(shou)先從成分分析，HMDS，中文名六甲基(ji)二(er)硅氮烷，是一種(zhong)有機(ji)物(wu)，在水中的溶解性(xing)很低，但它可與多種(zhong)有機(ji)溶劑混溶，比如醇、醚和(he)多數非極(ji)性(xing)溶劑。BARC也主要以有機物為主。而顯影液(ye)一般是堿(jian)性的，因此顯影液(ye)一般無法將HMDS,BARC完全去除(chu)。

但是正膠在(zai)曝(pu)光后，會包含羧(suo)基的(de)物質，而(er)羧(suo)基（-COOH）可以和堿(jian)性物(wu)質反應，因此光刻膠(jiao)是(shi)可以被(bei)去除的。

所以有哪些方(fang)法可以用來去除HMDS和(he)BARC呢？

1，溶(rong)劑清洗：可以(yi)使用有機溶(rong)劑（如異(yi)丙(bing)醇）來清洗晶圓，去除HMD和(he)BARC，但這種方法會有(you)少量殘余。

2，等離子清(qing)洗：在一些工序前后，使用氧(yang)離子體清(qing)洗步(bu)驟來去除(chu)晶圓上的有機殘留物，包括HMDS,TARC。在HMDS和BARC涂(tu)層很薄的的情況(kuang)下，這種方式可以(yi)完全清理干(gan)凈。

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